<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns="http://purl.org/rss/1.0/" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
  <channel rdf:about="http://hdl.handle.net/123456789/10811">
    <title>DSpace Collection:</title>
    <link>http://hdl.handle.net/123456789/10811</link>
    <description />
    <items>
      <rdf:Seq>
        <rdf:li rdf:resource="http://hdl.handle.net/123456789/10831" />
        <rdf:li rdf:resource="http://hdl.handle.net/123456789/10830" />
        <rdf:li rdf:resource="http://hdl.handle.net/123456789/10829" />
        <rdf:li rdf:resource="http://hdl.handle.net/123456789/10828" />
      </rdf:Seq>
    </items>
    <dc:date>2026-05-24T09:00:20Z</dc:date>
  </channel>
  <item rdf:about="http://hdl.handle.net/123456789/10831">
    <title>Вплив міжфазних меж на розсіювання носіїв струму у легованих вісмутом плівках телуриду свинцю</title>
    <link>http://hdl.handle.net/123456789/10831</link>
    <description>Title: Вплив міжфазних меж на розсіювання носіїв струму у легованих вісмутом плівках телуриду свинцю
Authors: Дзундза, Богдан Степанович; Яворський, Ярослав Святославович; Ткачук, Андрій Іванович; Бандура, Юлія Володимирівна
Abstract: Досліджено вплив міжфазних меж на розсіювання носіїв струму у легованих вісмутом плівках телуриду&#xD;
свинцю, осадженого на ситалових підкладках від їх товщини. Встановлено, що домінуючу роль відіграє&#xD;
розсіювання на поверхні і міжзеренних межах, відносний внесок яких визначається температурою осадження.</description>
    <dc:date>2013-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="http://hdl.handle.net/123456789/10830">
    <title>Приповерхневі шари і термоелектричні властивості парофазних конденсатів PbTe:Bi</title>
    <link>http://hdl.handle.net/123456789/10830</link>
    <description>Title: Приповерхневі шари і термоелектричні властивості парофазних конденсатів PbTe:Bi
Authors: Фреїк, Дмитро Михайлович; Дзундза, Богдан Степанович; Костюк, Оксана Богданівна; Матеїк, Галина Дмитрівна
Abstract: Досліджено термоелектричні властивості полікристалічних плівок PbTe:Bi, отриманих конденсацією&#xD;
пари у відкритому вакуумі на ситалові підкладки. На основі двошарової моделі Петріца знайдено електричні&#xD;
параметри приповерхневих шарів. Отримані результати інтерпретуються процесами адсорбції кисню на&#xD;
поверхні та його дифузії в глиб конденсату. Показано, що конденсати товщиною d&lt;0,2 мкм характеризуються&#xD;
покращеними термоелектричними властивостями.</description>
    <dc:date>2013-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="http://hdl.handle.net/123456789/10829">
    <title>Процеси росту парофазних наноструктур PbTe:Bi на ситалі</title>
    <link>http://hdl.handle.net/123456789/10829</link>
    <description>Title: Процеси росту парофазних наноструктур PbTe:Bi на ситалі
Authors: Фреїк, Дмитро Михайлович; Яворський, Ярослав Святославович; Литвин, Петро Мар’янович; Биліна, Іван Степанович; Ліщинський, Ігор Мирославович; Марусяк, В. Б.
Abstract: Наведено результати АСМ-дослідження процесів формування наноструктур на основі легованого&#xD;
вісмутом плюмбум телуриду PbTe:Bi, осаджених із пари у відкритому вакуумі на підкладки із ситалу за&#xD;
різних технологічних факторів: температури випаровування ТВ = (650-750) ºС; температури підкладок&#xD;
ТП = (150 -250) ºС; час осадження τ = (3-120) с. Описано вплив досліджуваних умов отримання та процеси&#xD;
росту структурних наноутворень.</description>
    <dc:date>2013-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="http://hdl.handle.net/123456789/10828">
    <title>Процеси структуроутворення у парофазних конденсатах PbTe:Sb на ситалі</title>
    <link>http://hdl.handle.net/123456789/10828</link>
    <description>Title: Процеси структуроутворення у парофазних конденсатах PbTe:Sb на ситалі
Authors: Яворський, Ярослав Святославович
Abstract: Представлено результати АСМ-дослідження процесів структуроутворення у конденсатах PbTe:Sb/ситал,&#xD;
отриманих відкритим випаровуванням у вакуумі при температурах осадження ТП=(150-250) ºС і часі&#xD;
осадження τ = (15-240) с. Показано, що домінуючим є механізм зародження Фольмера-Вебера, а процес росту&#xD;
наноутворень пояснено у наближенні оствальдівського дозрівання, у якому переважають дифузійні кінетичні&#xD;
процеси. У ряді випадків сформовані наноструктури PbTe:Sb представляють собою тригональні піраміди із&#xD;
гранями {100} і основою (111), яка паралельна до поверхні підкладки.</description>
    <dc:date>2013-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
</rdf:RDF>

